新創納公司擁有非常完備的cmp拋光液驗證設備，在cmp拋光液的開發研究中起著至關重要的作用，這些設備能夠滿足各種尺寸、材質襯底材料的拋光液制成驗證。

銅盤拋光機用于晶圓拋光制成前一道的銅拋制成。

CP-4測試機臺可以在線檢測拋光過程中的摩擦系統、溫度和聲學信息的變化，用于拋光過程中各種數據的收集，非常適合于拋光機理的研究。

32SPAW單面拋光機，用于對金屬、陶瓷等材料所需拋光液的開發研究。

36GPAW單面軟拋機，用于對藍寶石晶圓、化合物半導體等材料所需拋光液的開發研究。

50GPAW單面拋光機，用于對大尺寸藍寶石晶圓、大尺寸硅片等材料所需拋光液的開發研究。

DSM 16B雙拋機用于對各種材料雙拋拋光液的開發研究。

超聲波清洗機用于拋光完后晶片的清洗，以便對拋光后的晶片表面進行粗糙度和缺陷等情況的檢測。